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脈沖激光沉積 PLD-18L
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脈沖激光沉積 PLD-18L

脈沖激光沉積 PLD-18L
上海伯東代理 AdNaNo 鎧柏科技旗艦款脈沖激光沉積設備 PLD-18L, 它可以與濺射槍, 積液池, 高壓流變, 激光束控制相結合, 可以放置 8×1 英寸的樣品或 4×2 英寸的樣品, 在真空狀態下通過 load lock chamber 進行更換, 使用高速激光掃描儀, 可以很容易地作出大規模的結果.

AdNaNo 鎧柏科技的 PLD 系統共分兩型, PLD-12L 與 PLD-18L, L代表激光加熱. PLD 最適合長氧化物與多元薄膜, 在氧化物生長的時候要通入大量的氧氣, 而氧氣會造成一般加熱器的損傷甚至斷掉. 而鎧柏科技激光加熱器沒有這個缺點, 可以在高氧壓甚至臭氧下工作. 最高工作溫度可達 1000攝氏度以上. PLD-12L 的優點是腔體小, 速度快. 可以兼容兩只磁控濺射靶或束源爐. 可使用 mask. PLD-18L 的擴充性強大, 可以裝4只束源爐或是 plasma cell, 靶材臺可裝6個1寸靶或者3個2寸靶. 兩種系統均可裝配高氣壓高能電子槍 ( High Pressure RHEED ) PLD-18 可加裝橢圓儀, 及時監控. 特殊的激光視窗保護機構可保護視窗,

可沉積材料如: Heterostructure metal oxides (e.g. Fe / SrTiO3, Nb / SrTiO3, BiFeO3, etc), high temperature superconducting materials, silicon oxides, high k oxides, metal nitrides, ferroelectric materials, etc.

脈沖激光沉積 PLD-18L 特點
• Base pressure: 5E-10 torr
• RHEED system
• 4 axis substrate manipulator with rotation and XYZmovement
• Pumping throughput control
• All metal leak valve
• Laser Heater

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