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射頻離子源 RFICP 380
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射頻離子源 RFICP 380

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術提供高密度離子, 工藝時間更長.
   2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
2. 離子源結構模塊化設計
3. 自動調節技術保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
4. 柵極材質鉬和石墨,堅固耐用
5. 中和器 Neutralizer, 測量和控制電子發射,確保電荷中性
6. 通氣 Ar, O2, N2, others
7. 離子束流: 電流: > 500毫安, 能量 100-1200eV
考夫曼離子源 RFICP 380 技術參數

型號

RFICP 380

放電腔 Discharge

射頻

最大功率

>1kW

最大離子束電流

>1000mA

電壓

100-1500V

氣體

惰性和活性

流量

5-50sccm

真空度

< 0.5mTorr

離子光學(自適應)

OptiBeamTM

離子束直徑@ grids

38cm Φ (maximum)

柵極材質

離子束形狀

平行. 聚焦, 發散

中和器

LFN 2000

高度

15” (38.1cm)

直徑

22.9” (58.2cm)

Feedthrough direct

12”CF

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理. 

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