KRI 射頻離子源 Gridded RFICP 系列
閱讀數: 2398

KRI 射頻離子源 Gridded RFICP 系列

KRI 考夫曼離子源 Gridded RFICP 系列
上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源 RFICP 系列,無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長
RFICP  系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源, 電子供應器, 中和器, 電源控制等
RFICP  系列離子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性光透射,均勻性,附著力等

RFICP系列離子源應用:
離子輔助鍍膜 IBAD( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )
離子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )
表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )
離子濺鍍IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)
離子蝕刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)

RFICP系列離子源技術參數:

型號

RFICP 40

RFICP 100

RFICP 140

RFICP 220

Discharge 陽極

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

- 燈絲陰極

- 射頻功率

0.6 kw

1kw

1kw

2kw

離子槍

離子束

離子束

離子束

離子束

- 柵極

根據實際應用選配

- 對齊

 

自對準

 

自對準

 

自對準

 

- 離子束直徑@柵極

4cm

10 或12cm

14cm

22cm

中和器

LFN 2000

LFN 2000

LFN 2000

LFN 2000

電源控制

RFICP 1510-2-06-LFNA

RFICP 1510-2-10-LFNA

RFICP 1510-2-10-LFNA

RFICP 1510-2-10-LFNA

配置

 

 

 

 

Cathode / Neutralizer

LFN1000 or MHC1000 or RFN

LFN2000 or MHC1000 or RFN

LFN2000 or MHC1000 or RFN

LFN2000 or MHC1000 or RFN

基座

法蘭或Remote

法蘭或Remote

法蘭或Remote

法蘭或Remote

高度

5.0 英寸

9.25 英寸

9.8英寸

11.8 英寸

直徑

5.3 英寸

7.52 英寸

9.8 英寸

16.1 英寸

其他產品
11选5定位独胆99% 福建36选7 广东闲来麻将下载安卓 浙江6+1 特别数字 宇都宫紫苑番号 大圣闹海捕鱼游戏中心 欢乐真人麻将游戏 春假时光 股票查询00073 斗牛棋牌? 河北快3开奖l结果手机版 秒速牛牛首页 鸿E配资 湖北11选5走势图号码查询 河南快赢481走势 10分快3跟老师计划挣钱是真的吗 上海时时乐基本走势图